陳進一想到張雲似乎並非技術工程師的身份，還是耐心的解釋了：
「這台SSA600/20採用的是193nm氟化氬深紫外光源。
它的曝光波長達到了28納米，採用沉浸式光刻技術。
配合我們自研的雙工作檯係統，每小時能完成120片晶圓的曝光作業，套刻精度控製在3納米以內。
它的光源係統用了我們自己研發的準分子雷射器，穩定性比進口設備提升了15%。 超便捷，.隨時看 ,提供給你，的閱讀體驗
而且重點零部件國產化率超過80%。
當然，和國際頂尖的5納米光刻機比，還有差距。
但這已經是我們目前能拿出的最好成果了。
目前，我們還在集中攻克7納米製程的量產問題。」
陳進一的話有些無奈，龍國的半導體行業，尤其是光刻機技術還是太落後了些。
誰都知道半導體領域想要突破，核心中的核心就是光刻機。
如今龍國大部分高端晶片，都需要依賴進口生產。
而且存在技術專利的問題，每年都要花上一大筆授權費用。
眼前這台機子已經是好幾年前的產物了，光是7納米級別的生產就已經卡了他們許多年。
張雲聽完後，緊接著問道：
「它在七納米以下的製程上有什麼問題嗎？」
陳進一沒想到他會直接問出這個問題，愣了一下才回答：
「問題還不少，主要是在多重曝光的疊加誤差上。
DUV的波長是193nm，從根本上限製了解析度的理論上限。
目前28納米波長要實現7納米製程，需要進行4次曝光。
但每次曝光的定位誤差會累積，目前最多隻能穩定在9納米左右，離量產要求的7納米還有距離。」
嚴正行聽到這裡，嘆了口氣，心裡搖了搖頭。
這就是他當初為什麼離開龍國的原因了。
和世界頂尖的光刻機相差數代的技術，要怎麼靠努力去追趕？
但靠張雲可以呀！
張雲等人此次前來的目的，自然是為了解決晶片生產問題，使其能夠在戰備狀態下提供應有的支持。
不過張雲還沒有天真到，認為能花幾個月時間就造出一台超越EUV光刻機的東西。
雖然張雲的腦中確實有全套光刻機的生產技術。
但還是那個問題，技術消化也需要時間。
即使擁有全套 EUV技術圖紙和原理知識，並得到國家最高權力的全力支持。
想在兩、三個月內從零打造出一台可用的EUV光刻機，仍然是近乎不可能完成的任務。
原因在於EUV光刻機的製造不僅是技術問題，也是極端精密製造，全球頂級供應鏈整合和複雜係統工程的巔峰體現。
老愛曾經說過，邏輯隻能讓你從a到b，但想像力可以帶你到任何地方。
三個月，你就想走在世界前列，這個想像力需要帶著物理課本一起飛。
那真不如去搶算了。
其實原本張雲提出的打算是，讓國家乾脆派一支秘密部隊搶了ASML，直接解決所有問題！
這家破公司可是一台EUV都沒賣給咱們。
那天他還因為這件事情，和邱將軍聊了很長時間。
邱老爺子甚至差一點就要被張雲說服了。
畢竟等到末世降臨，誰還管什麼仁義道德。
不過最終方案沒有達成，龍國還是太講武德了些。
那怎麼辦呢？
張雲很快提出了B方案，高效，快捷，而且合法！
雖然是不搶了，但我們可以換呀。
張雲提出的第二個方案，其實邱將軍也是萬分不情願。
甚至想要趕緊讓人限製張雲的行動，千萬不能讓他跟海外有所聯絡。
這個方案就是，張雲打算將更先進的光刻機光源係統賣給ASML公司，用以購買實體光刻機全套！
對於張雲來說，他最寶貴也是最不值錢的，便是腦海中那萬千的先進知識。
能夠拿出一點，來換取實質性的物品對他來說是非常劃算的。
因為他們現在最缺的不是知識，而是時間！
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