第515章 準備起飛

如果可以自由選擇研究方向，他們當然更願意選擇光刻機的主機來進行研究。

沿著當前這套設備研究演進到了65nm對於他們來說不是特別難的事情，現在國內的配套也能支撐下來了。

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重要的是在吃透這台光刻機主機後，後麵更換成為浸潤式技術路線，那麼從45nm、35nm、28nm這些技術節點演化下去，畢竟光刻機技術發展到現在，相關浸潤式原理和基本的技術工藝這些多多少少擴散出來了不少，如果陳教授和孫教授他們在有充分投入的情況下，研究實現用水來替代空氣這個關鍵技術後，就能實現14nm/10nm這兩個關鍵性的技術節點，站在國內製程研究的前沿。

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