第一壁高熱流測試留下的異常曲線還在材料專線等待複核，蘇明哲把WB-02的測試記錄分成三份，分別交給材料組、設備組和結構組，要求各組沿原始數據重新檢查，任何一處判斷都得有對應記錄。
產業新城的光子芯片研發中心卻亮了一夜。
沈明軒站在C3工程原型旁，麵前擺著三塊控製終端，左側終端顯示采樣頻率，中間終端顯示光譜分辨率，右側終端連接著光子測控平台的時序記錄。
金屬機箱還保留著調試階段的標簽，外殼邊緣有幾道拆裝留下的細痕，內部光路和光電轉換模塊經過多輪重排，原本屬於航發FADEC的控製架構，被重新接入等離子體光譜分析模塊。
團隊成員圍在測試台四周，沒人開口，所有人的視線都落在屏幕上。
沈明軒伸手按下啟動鍵。
C3工程原型進入采樣狀態，光譜信號從模擬端輸入，光子控製鏈完成時間標記，數據經過隻讀緩存後傳入分析終端。
第一組數據跳出。
采樣頻率達到濱鬆公開平台的兩點零三倍。
第二組數據緊跟著刷新。
在相同光譜分辨率下，C3的連續采樣穩定保持兩倍以上，短時峰值達到公開平台的兩點一八倍，按照沈明軒團隊建立的理論模型，距離三倍上限還留著提升空間。
負責記錄的工程師抬起頭：“沈總，連續采樣跑過一輪，數據範圍和昨夜一致。”
沈明軒盯著屏幕：“把昨夜和今天的原始文件疊在一起。”
兩組曲線被調到同一頁麵，峰值位置、采樣間隔和時間戳逐項重合，曲線邊緣隻有極小的誤差。
“誤差範圍。”
“零點零四個百分點。”
“設備溫度。”
“二十二點六攝氏度，變化小於零點二。”
“控製鏈狀態。”
“三套時序記錄一致。”
沈明軒伸手，把C3的工程編號貼到機箱正麵。
“再跑一輪。”
工程師重新裝入校準樣本，光譜信號經過模擬接口進入設備，采樣窗口連續開啟，屏幕上的數據沿著時間軸快速鋪開。
這一次，采樣頻率維持在濱鬆公開平台兩點零七倍，數據鏈延遲處於工程目標範圍，光子控製端的時間戳與輸入信號保持同步。
沈明軒拿起記錄板，在工程原型完成欄旁邊簽下名字。
“原型完成。”
測試台四周傳出一陣輕微的呼氣聲，連續工作多日的工程師放下手裡的終端，有人靠到椅背上，有人把記錄本翻到第一頁重新核對。
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沈明軒盯著屏幕。
“數據不能隻看峰值。”
負責測試的工程師馬上調出連續運行曲線：“按八小時窗口跑過兩輪，采樣頻率最低為濱鬆公開平台的一點九八倍。”
“為什麼低於兩倍？”
“進入設備熱穩定階段時，光電轉換模塊有一段自適應修正，持續不到三分鐘，修正完成後恢複到兩倍以上。”
“這段也留著。”
“留存。”
沈明軒接過終端，逐項查看原始數據、校準文件和設備日誌，手指在異常修正的位置停下。
“熱穩定階段的處理方式寫進工程記錄，不能用平均值掩掉低點。”
工程師點頭：“明白。”
“再測一遍，等李總驗收。”
“現在接入主裝置嗎？”
“先做工程原型驗收，主裝置聯調按排期進行。”
工程師收回連接線，C3機箱旁的接口蓋重新合上。
就在這時，李天的視頻窗口接入光子中心，畫麵裡的他坐在西北基地臨時辦公室，身後擺著晨曦主裝置最新設備圖，光線從側麵照到他手裡的文件上。
“報告。”
沈明軒把測試主屏轉向鏡頭：“C3等離子體高分辨率光譜分析模塊，工程原型完成，采樣頻率達到濱鬆公開平台兩點零七倍，短時理論上限接近三倍。”
“連續數據。”
“最低一點九八倍，熱穩定階段存在短時自適應修正，原始記錄完整。”
“光譜分辨率。”
工程師報出結果：“按工程目標運行，分辨率保持在設計區間。”
李天看向沈明軒：“重複性。”
“已做三輪，差異處於工程允許範圍，第四輪正在準備。”
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