第311章 未來的萬億美元市場
徐申學調控整個仙女山控股下屬的半導體設備，材料研發體係，甚至動用自己的人脈關係，影響力以及其他資源，進而加速了DUV浸潤式光刻機的大規模量產。
這讓海灣科技的HDUV-400型光刻機的量產速度出現了提升。
「今年，我們將會確保為國內各晶片廠商提供至少五十台HDUV-400光刻機量產型，用於各廠商的晶片生產，同時將會再生產至少五台HDUV-500型光刻機的試產型號，用於智雲微電子，中芯兩家廠商的的測試，研發工作！」
「為了確保能夠做到這一點，我們還將會進一步加大人員的招聘，培養力度！」
海灣科技的CEO王道林，為徐申學如此描繪今年光刻機領域裡的生產以及研發情況。
「目前我們已經初步解決了500型光刻機的套刻精度問題，在子係統的測試中已經能夠做到穩定三點五納米的精度，可以支持十四納米工藝的量產。」
「接下來我們將會試製一台樣機進行整機測試，並在第三季度開始交付首台測試樣機給智雲微電子方麵！」
「而更進一步的光刻機研發中，我們正在搞套刻精度兩點五納米，用以未來支持七納米工藝的600型號，目前雖然還遇到了一些技術難題，不過我們正在加大力度進行轉向的技術攻關，我們爭取在未來的兩年裡解決這個技術難題。」
「隻要解決這個兩點五納米的套刻的技術難題，那麼我們的光刻機就能夠進行高效的，高良率四重曝光，而高良率四重曝光技術則是可以用於等效七納米工藝的大規模量產！」
「儘管我們和ASML還存在一定的技術差距，但是這種技術差距並不是不可跨越的，畢竟我們已經解決了最難的鏡片以及光源部分，還解決了雙工作檯問題，如今我們隻需要穩紮穩打，持續的進行技術優化，逐步提升，就能夠把這個套刻精度逐步提升起來！」
徐申學道：「如此看來，我們的DUV浸潤式光刻機應該是穩了，未來七納米工藝也問題不大了。」
「那麼七納米工藝以下呢？我們正在搞的600型光刻機能否進一步突破極限，做到等效五納米的晶片？」
王道林此時道：「七納米工藝問題不大，而五納米工藝的話雖然理論上可以通過多重曝光，比如八重曝光，使用現有DUV浸潤式光刻機的134納米波長的光源，也能用來製造等效5納米工藝的晶片。」
「但是這需要光刻機提供更高的套刻精度，這樣才能夠在多重曝光的時候，每一次都對準晶片進行曝光。」
「如果套刻精度不夠，那麼在進行多重曝光的時候就無法對準，晶片良率就會低到一個非常誇張的程度。」
「按照我們的計算，600型光刻機的二點五納米的套刻精度用來維持七納米工藝量產是已經算是比較極限的了，到時候哪怕其他各方麵的條件都比較理想，估計也就隻能做到百分之八十左右的良率，而這還是理論數據，如果受到其他各方麵的影響，實際生產的時候可能還達不到這個良率。」
「如果要使用600型光刻機，強行生產等效五納米工藝的晶片，也不是不可以，在理論上是存在這種可能性的，但是我們的這款600型光刻機在套刻精度上還不夠，強行生產的話，那麼良率將會非常低，完全不具備商業價值！」
徐申學聽罷後，卻是沒有露出什麼沮喪之類的表情，而是繼續翻看著技術，然後道：「七納米工藝能夠解決的話，就不錯了。」
「至於五納米工藝的話，良率低，商用價值低先不談，關鍵的是要解決有無問題，我們必須確保哪怕沒有EUV光刻機，也要能夠獲得一定的五納米工藝產能，哪怕它成本極其高昂！」
徐申學對這個等效五納米工藝，還是比較看重的……在沒有EUV光刻機的當下裡，想要進一步突破工藝製程，那麼就需要深挖DUV浸潤式光刻機的極限了。
不僅僅是自己這邊的問題，對麵的英特爾和台積電，四星等也存在同樣的問題……因為他們也沒EUV光刻機可用！
【𝗼𝗼𝗽.𝘁𝘄 無錯章節】
原時空裡他們可以直接用EUV光刻機玩七納米甚至五納米，但是這個時空裡……徐申學微笑著對他們說：我沒得用，你們也不能用！
你們不能搶跑，這不是體麵人該做的事！
你們要是不體麵，我就幫你們體麵！
至於說什麼規矩不規矩，事關幾千億美金的電子消費以及半導體市場，背後是一整個電子消費以及半導體產業鏈，影響數以千萬計的就業崗位……
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