梁景徽一身簡約工裝，眼底帶著連日攻堅後的疲憊。
卻藏著難以掩飾的滾燙光芒，手中緊緊攥著一疊厚重的技術驗收報告與設備實測數據表。
每一頁都標註著密密麻麻的專業參數、調試記錄、性能校驗結果。
作為華創半導體公司CEO，他算是最不被大家認可的。
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因為沒有任何成就在。
很多人把梁景徽當騙子，以為他就是這樣當上子公司CEO的。
而公司也隻有核心技術人才，才明白光刻機有多難。
知道梁景徽真的不容易。
過去大半年時間，他帶領數十名頂尖技術人員，隱於幕後，日夜攻堅，紮根在枯燥精密的光刻技術研發中，隻為突破國外數十年的技術封鎖。
「蘇總。」
梁景徽走到辦公桌前，難掩激動，聲音都帶著一絲不易察覺的顫抖，這是技術攻堅者突破極限，圓夢時刻的由衷動容。
「驗收結果全部出來了，數據百分百達標！」
蘇誠抬眼，目光落在他手中的報告上，神色平靜，沉穩問道：「全部達標？詳細說說。」
梁景徽重重點頭，將報告平鋪在桌麵，指尖精準點在核心參數欄，逐項匯報，底氣十足的說著：
「我們自主復刻研發的193nm ArF光源乾式步進掃描式光刻機，所有核心部件、光學係統、精密工作檯、對準控製係統、雷射光源模組，全部實現國產化自研自產。
無任何海外技術依賴，無任何進口零部件！
整機曝光精度、掃描穩定性、良品率、連續工作時長，全部對標海外同期商用主流設備。
關鍵參數甚至小幅超越，經過七十二小時不間斷滿負荷實測，設備運行穩定，線寬控製精準，完全具備量產使用條件。」
2007年的國內半導體行業，光刻機領域完全處於被卡脖子的被動局麵。
國內僅有少數老舊光刻設備，精度落後，穩定性差。
高端193nm級別光刻機完全被海外壟斷，嚴禁對華出口，技術壁壘高到近乎無法逾越。
在此之前，國內無數科研院所，國企大廠投入巨資，耗時數年攻堅，始終無法突破193nm光刻的核心技術瓶頸，隻能在低端製程徘徊。
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而華創，一家成立不足1年，以智慧型手機出圈的民營科技公司，悄無聲息完成了國家級的技術突破。
這絕非簡單的設備仿製，而是徹底吃透光學原理、精密機械控製、雷射光源調校、光刻工藝適配的全套底層技術，是真正意義上的國產自主可控！
梁景徽深吸一口氣，壓下心中的激動，繼續匯報後續規劃，眼神無比堅定：
「而且我們團隊在乾式機型攻堅過程中，徹底吃透了193nm ArF光源的全套技術邏輯。基於現有技術積累，193nm ArF光源浸潤式光刻機的技術路徑已經完全打通，核心難點全部攻克！」
他簡單解釋其中的技術跨度，讓蘇誠清晰知曉突破的含金量：
「乾式機型是以空氣為介質，是193nm光刻的基礎版本。
而浸潤式機型是在物鏡與晶圓之間加入超純水作為介質，利用水的高折射率壓縮等效波長。
能大幅提升曝光解析度，製程能力、精度上限、適配場景全麵升級，是下一階段高端製程的核心設備。
現在技術圖紙、算法模型、工藝方案全部定稿，不存在任何技術盲區，隻差整機裝配與調試！
根據團隊最新工期測算，整套乾式光刻機量產生產線，浸潤式光刻機整機研發調試。
全部工程預計今年年底可以全麵完工落地，屆時我們將擁有完整的193nm級別光刻機量產能力，徹底打破海外封鎖！」
看似平淡的匯報，背後卻是足以顛覆國內半導體格局，補強國家硬核短板的驚天成果。
蘇誠低頭看著密密麻麻的精準實測數據，每一組參數都印證著技術的真實性與成熟度，眼底終於泛起一抹深邃的亮色。
他早已知曉結局，此刻依舊心生感慨。
在智能機賽道橫掃行業，萬眾矚目之時。
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