厚度增加是不一致的，在濺鍍過程中，較多的鋁會沉積在基片上平坦的表麵，即坑底和台上，而坑壁則較少，這個因數也必須加以考慮，否則電信號將會改變。
濺鍍機陰極的設計也非常重要，需要進行有效的設計以減小基片上濺鍍層厚度的變化，這也是DVD9和CD濺鍍工藝的重要區別。對CD而言，坑壁和坑底濺鍍層厚度的不同以及濺鍍層整體的均勻性相對並不重要，隻要有足夠的鋁沉積層滿足反射率的要求，那麼厚度隻是成本的問題而不是技術問題。
0層和1層的反射率最初設定為25-40%，但現在已降至18-30%，因為讀取激光束必須穿過0層到達1層，0層的厚度直接影響到將有多少光實際到達下一層，當讀取激光束通過0層反射回播放機時，對信號的強度也有同樣的影響。信號強度的衰減量不但與濺鍍層厚度相關，也和所用濺鍍材料的不同而隨之變化。
鋁的濺鍍厚度沉積窗口很窄，在靶材的使用壽命內，很難設計出這種陰極能達到所需的一致性，這也是為什麼目前鋁不適合在生產狀態下使用的原因。雖然金是非常昂貴的材料，但能提供大得多的工藝窗口。
矽、氮化矽、碳化矽等電介質與純金屬的鋁、金等材料在反射性能方麵有點不同，由於它們的折射率與基片（聚碳酸酯）的折射率不同而產生所需的反射率，反射率的大小與讀取激光束的波長有關。這些電介質的另一個優點是它們吸收的光比金屬少，這使它們在這個領域裡有很有用的優點。鋁的吸收值k如果為5.5，那麼矽隻有0.35（與其化學計量有關）。雖然這些電介質有這種優點，並且使用時能很容易達到DVD規格的要求，但在使用SiN和SiC時，實際的濺鍍工藝需要非常複雜的設備和豐富的工藝知識，這是因為需要使用活性氣體來生成這些反射層。就如SiN，在實際的濺鍍過程中，矽靶隻有在充滿氮氣的情況下，原子才能合成產生SiN。這使得象金這樣的金屬有機會應用於生產中，因為濺鍍金或鋁等良導體類材料是相對容易的，當然這也關係到濺鍍係統的製造成本。
最近在使用純矽方麵取得了進展，降低了在濺鍍室內引入活性氣體的複雜性。
有趣的是所謂的“純”矽層無論是真的由純矽組成，還是由實際上矽已與存在於濺鍍室本底壓力內部分氮、氧、氫等發生反應後產生的純矽、SiN和各種其它氧化物的混合物，如果不同盤片進料室真空度稍有不同，濺鍍室的剩餘壓力隨之變化，這意味著剩餘氣體的量將會隨機改變，因此很難推斷出半反射層的最終成分及其反射率。
迄今為止，結果顯示可以用純矽做DVD9的靶材，許多客戶也有興趣使用。
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雖然矽引起了人們的廣泛興趣，事實上每個剛開始著手做DVD9的人最初都使用金靶，但一旦人們熟悉了DVD9的生產工藝，那麼他們將會改用矽靶，就如設備一樣，實際的靶材切換並不困難。如果你在使用金靶，那改用矽靶隻是時間問題，也許在將來能見到用鋁作為半反射層的生產工藝--當然這有助於降低靶材的成本。
DVD9優於DVD5的主要表現
一、D9和D5的最大區別就在音效上，D5至多隻可能是AC-3解碼，而D9全部都是DTS或者以上，而且還有THX認證的，DTS的碼率遠高於AC3的。而且DTS編碼容量也大的驚人，所以D9格式的盤片，當然效果也是優於AC3編碼的...
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