四月的鵬城,春意盎然。風華半導體研究院新建的發布大廳裡,人頭攢動。來自全國各地的媒體記者、行業專家、政府官員、合作夥伴,把能容納三百人的大廳擠得水泄不通。
這是“風鵬計劃”原理樣機的首次公開亮相。舞台中央,被紅色綢布覆蓋的樣機靜靜矗立,像一座等待揭幕的紀念碑。台下,攝像機、照相機林立,閃光燈此起彼伏。
韓風站在後台,透過幕布的縫隙看著台下黑壓壓的人群。他能聽到自己的心跳聲,快而有力。今天,他們將向全世界展示中國人自己的EUV原理樣機。這是幾個月來團隊心血的結晶,也是對國家支持的交代。
“緊張嗎?”張建國走到他身邊,輕聲問道。
“有點。”韓風坦誠地說,“畢竟,這是第一次公開亮相。外界會有期待,也會有質疑。”
李振華教授整理了一下領帶:“技術數據我們都複核了三遍,樣機也連續運行了七十二小時,穩定性沒問題。今天隻要正常演示,就能證明我們的實力。”
“關鍵是光刻演示環節。”趙工補充道,“那是EUV的核心功能。我們準備了三種不同線寬的測試圖案,從28納米到7納米,逐級展示。”
韓風點點頭。這三個線寬,代表著三個技術台階。28納米是當前國內最先進的水平,14納米是國際主流,7納米則是前沿。如果他們能在原理樣機上實現7納米的光刻,就意味著技術上已經達到了世界先進水平。
但風險也在這裡。如果演示過程中出現任何問題——圖形失真、線條斷裂、對位不準——都會被無限放大。那些等著看笑話的人,正盯著每一個細節。
“時間到了。”工作人員提醒。
韓風深吸一口氣,整理了一下西裝,大步走上舞台。聚光燈打在他身上,台下瞬間安靜下來。
“各位來賓,各位朋友,大家上午好。”韓風的聲音通過麥克風傳遍全場,“我是風華集團的韓風。今天,我很榮幸地站在這裡,向大家展示一項可能改變中國半導體產業格局的技術——我們自主研發的EUV光刻原理樣機。”
他頓了頓,環視全場:“在揭幕之前,我想先講幾個數字。過去六個月,我們的研發團隊累計工作了十萬個小時;進行了三千多次實驗;攻克了十二項關鍵技術難題;申請了四十八項發明專利。”
台下響起掌聲。這些數字背後,是無數人的汗水和付出。
“但這還不夠。”韓風話鋒一轉,“數字隻能說明過程,不能說明結果。今天,我們將用事實說話——用這台樣機的實際表現,證明中國民營企業也有能力攻克世界級的技術難題。”
他走到樣機旁,抓住紅色綢布的一角:“現在,請允許我為大家揭曉——‘風鵬一號’EUV光刻原理樣機!”
綢布滑落,樣機露出真容。三米多高的設備,銀灰色的外殼泛著金屬光澤,各種指示燈閃爍著綠光。雖然外觀還略顯粗糙,但那種工業美感,讓所有人為之震撼。
掌聲雷動。閃光燈連成一片,整個大廳亮如白晝。
接下來是技術講解環節。李振華教授上台,詳細介紹了樣機的技術參數和設計理念。他的講解深入淺出,既有理論高度,又有實踐細節,贏得了專家們的頻頻點頭。
“我們的光源係統,采用了全新的材料配方,發光效率比傳統方案提高了百分之三十。”
“光學係統使用了自主設計的五鏡片結構,像差控製在理論極限內。”
“真空係統實現了10^-8帕的超高真空度,為光刻創造了理想環境。”
每一個參數,都代表著技術的突破。台下,不少業內專家開始認真做筆記,有的還拿出計算器驗證數據。
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然後是演示環節。這是最關鍵的步驟。工作人員將一片矽片送入樣機,趙工在控製台上操作。大屏幕上實時顯示著光刻過程——激光激發、光線傳輸、掩模成像、矽片曝光。
第一組圖案:28納米線條。屏幕上的圖像清晰銳利,線條均勻筆直,邊緣整齊。
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