“原子層沉積（ALD）”設備中。但他並沒有直接開始鍍膜。
“在Mo\/Si多層膜之間，插入厚度為0.1納米的‘釕-石英’複合界麵層，以消除界麵應力，提升反射率。”
這又是他基於更高維知識進行的魔改！外界科學家還在為如何減少薄膜之間的應力而苦惱時，他已經找到了完美的解決方案。
隨著設備運行，不同元素的原子蒸汽被交替注入真空腔體，一層又一層地“刷”在鏡片表麵。
當鍍膜完成，係統給出了最終的檢測報告。
【反射率：71.8%。】
超越理論極限！
至此，整套High-NAEUV光學係統的核心部件，這套凝聚了光學、材料學和精密製造巔峰的“神之眼”，在不到十個小時的時間裡，被陳啟明一個人，從最基礎的原材料開始，一手打造完成！
這在地球上是不可想象的。任何一個國家想要複刻這個過程，都需要投入數十年時間和數千億美元，組織成千上萬的頂尖科學家和工程師協同攻關，而且成功率極低。
而這，僅僅是陳啟明的第一步。
他馬不停蹄地來到下一個實驗室，開始製造光刻機的“軀乾”——雙工件台係統。
這是機械工程的極限。為了效率，它要求一個工件台在進行曝光的同時，另一個工件台已經載著下一塊晶圓進行預對準和測量。兩個台麵需要在真空環境中以超過7G的加速度進行閃電般的交換和移動，同時定位精度必須控製在納米之內。
陳啟明直接調出了他優化的設計方案。
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材料，他沒有選擇傳統的陶瓷，而是讓係統合成了一種“碳化矽基陶瓷-鈦合金複合材料”，在保持超高剛性的同時，將重量降低了30%。
驅動，他設計了一套全新的“哈爾巴赫陣列磁懸浮係統”，利用特殊的磁體排布，在工件台下方產生更強、更均勻的磁場，使其能夠在無任何物理接觸的情況下，進行超高速、超平穩的運動。
控製算法，他更是親手編寫了一套包含“前饋-反饋耦合控製”與“多體係統動力學實時解耦”的複雜程序。
在係統的集成製造中心裡，巨大的3D打印機直接用激光燒結技術，一體成型地製造出了複雜的工件台基座。無數微型機械臂則如同辛勤的蜜蜂，將成千上萬個傳感器、致動器和磁體，以亞微米級的精度安裝到預定位置。
又一個五個小時後，一套在性能上全麵碾壓ASML最先進產品的雙工件台係統，宣告完工。經過測試，它的極限加速度達到了驚人的10G，而重複定位精度，則被鎖定在了恐怖的0.1納米！
光學係統（靈魂）、機械係統（軀乾）都已完成。接下來，是賦予這台機器智慧的“大腦”——全套的控製與操作係統。
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