第142章 光刻機

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向推導”和“優化設計”出來的。它使用的核心部件,如激光器、鏡片材料、特種陶瓷、傳感器等,部分是周明遠通過特殊渠道從全球采購的高端工業品,部分則是機器人利用基地內的小型熔爐和納米級3D打印設備,自己“手搓”出來的!其性能目標,直接對標海外最先進的DUV光刻機,最高可支持7納米工藝!

“預計還需要多久可以完成調試,並生產出第一片合格的測試芯片?”李森問。

“全部調試完成預計需要60天。流片驗證需要額外60天。如果一切順利,120天後,可以產出基於7納米工藝的測試芯片。”機器人精確回答。

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120天!不到半年!這個速度,若是傳出去,足以讓全球半導體業界地震!

“很好!優先保障‘燭龍’項目資源。同時,開始規劃下一代EUV光刻機的技術預研。”李森下令。他要的,不是簡單的打破封鎖,而是全麵的領先。

“指令確認。EUV技術預研項目已啟動,代號‘羲和’。目前主要攻關難點在於高功率EUV光源和反射式光學係統。”

離開B+區,李森又來到數據中心。這裡堆放著數千個已經存滿了技術資料的U盤。他讓734將關於“燭龍”光刻機的部分“非核心”技術資料,子係統的設計思路、關鍵工藝的替代方案、控製軟件的架構等整理出來,準備擇機“泄露”給滬市的“星海精工裝備研究所”和蜀府新區未來組建的光刻機研發團隊。他要讓明麵上的團隊,也能“順理成章”地取得突破,最終實現“自主研製”的成功,從而掩蓋真正實力。

兩個月後,當周明遠再次為光刻機愁眉不展時,李森將他叫到辦公室,遞給他一個硬盤。

“明遠,這是我們精工所和合作院校的專家們,近期在光刻機雙工件台和照明係統方麵,取得的一些突破性理論成果和初步的設計方案。你組織核心專家團隊進行驗證和深化設計。或許,我們能走出一條不一樣的路。”

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