也在觀望。
資金壓力再次出現。
更糟糕的是，工藝驗證遇到了瓶頸。5納米工藝的穩定性始終上不去，成功率在75%到80%之間徘徊，達不到85%的目標。
“問題出在光刻膠上。”陳雪茹分析，“國產光刻膠的均勻性不夠，在5納米尺度下，微小的差異就會導致失敗。”
“有改進方案嗎？”
“有，但需要時間。”陳雪茹說，“我們正在和國內的光刻膠企業聯合研發，但最快也要三個月。”
三個月，太長了。中芯國際的試用計劃下個月就要開始，如果工藝不穩定，試用就會失敗。
韓風感到了前所未有的壓力。資金緊張、技術瓶頸、市場壓力、競爭對手打壓......所有問題同時爆發。
深夜，他一個人站在實驗室裡，看著那台量產機型。設備靜靜地運轉著，指示燈有節奏地閃爍。
為了這台設備，他和團隊付出了太多。但現在，它可能永遠無法走向市場。
“韓總，還沒走？”陳雪茹走了進來。
“睡不著。”韓風苦笑，“雪茹，你說我們能做到嗎？”
“能。”陳雪茹堅定地說，“韓總，您知道我在英特爾時，最佩服的是什麼嗎？不是他們的技術，而是他們的堅持。一個技術路線，他們可以堅持十年、二十年，直到成功。我們現在才三年，有什麼理由放棄？”
“可是時間不等人啊。”
“時間是不等人，但我們可以跑得更快。”陳雪茹說，“韓總，光刻膠的問題，我有個想法。我們可以用多步曝光的方法，補償均勻性的不足。雖然效率會降低，但能提高成功率。”
“多步曝光？”韓風眼睛一亮，“詳細說說。”
兩人討論到淩晨，製定了一個新的工藝方案。用多次曝光、多次校準的方法，提升5納米工藝的穩定性。
第二天，團隊立即開始試驗。經過三天三夜的奮戰，新方案取得了成功——5納米工藝的穩定性達到了88%，超過了85%的目標。
“成功了！”陳雪茹激動地擁抱韓風。
韓風也很激動，但很快冷靜下來：“這隻是實驗室數據，還要在實際設備上驗證。”
“我明白，馬上安排！”
在量產機型上，新工藝方案同樣取得了成功。連續一百次測試，5納米線條的成功率穩定在86%以上。
這意味著，風華半導體的EUV設備，已經具備了製造5納米芯片的能力。
這個消息像一顆炸彈，在行業內引起了轟動。
方婷聽到這個消息時，正在和ASML的高層開會。她臉色瞬間變了。
“不可能！”她對ASML的技術總監說，“他們的設備用的是國產部件，怎麼可能做到5納米？”
“但數據是真實的。”技術總監看著報告，“雖然性能還不如我們的最新型號，但已經達到了可用的水平。而且他們的成本更低，服務更靈活。這對我們是個威脅。”
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方婷沉默了。她突然意識到，自己可能犯了一個錯誤——低估了韓風和風華半導體的能力。
“我們需要調整策略。”ASML的銷售總監說，“在華國市場，我們要打價格戰，把風華半導體扼殺在搖籃裡。”
“價格戰？”方婷皺眉，“ASML的設備成本那麼高，打價格戰會虧本的。”
“短期的虧損，換來長期的市場壟斷，值得。”銷售總監說，“我們不能讓華國企業在這個領域站穩腳跟。”
方婷想了想：“好，我去安排。”
她決定親自出手，用最狠的手段，徹底打垮風華半導體。
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